石油化工高等学校学报 ›› 2015, Vol. 28 ›› Issue (3): 91-96.DOI: 10.3969/j.issn.1006-396X.2015.03.019
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王 宁1, 2, 王 静2, 郑福卫3, 武玉民1, 侯保荣2
摘要: 类金刚石膜具有硬度高、 摩擦系数低、 耐腐性强、 稳定性高等优点, 是提高铜耐腐性的理想材料, 但铜 与类金刚石膜之间的结合力差。通过制备T i xC y 过渡层, 采用磁控溅射物理气相沉积与化学气相沉积法, 通过改变 过渡层碳靶功率成功在铜基体上沉积类金刚石膜。并对金刚石膜进行拉曼光谱测试、 划痕实验和电化学实验分析。 结果表明, 所制备碳膜具有典型的类金刚石结构, 膜与基体之间的结合强度大, 过渡层碳靶溅射功率为2 0 0W 时所 制备的类金刚石膜对铜基体的保护作用最好。
王 宁, 王 静, 郑福卫, 武玉民, 侯保荣. 改变过渡层碳靶功率在铜上沉积类金刚石膜的研究[J]. 石油化工高等学校学报, 2015, 28(3): 91-96.
Wang Ning, Wang Jing,Zheng Fuwei,et al. DiamondLike Carbon Film Deposited on Copper Substrate by Changing Intermediate C Target Power[J]. Journal of Petrochemical Universities, 2015, 28(3): 91-96.